中国芯片产业长期以来面临先进工艺的瓶颈,尤其在EUV光刻机的缺失下,国产企业曾依赖2000i进行7纳米工艺生产。然而,国内企业并未放弃,通过浸润式DUV光刻机和多重曝光技术,近期海外实验室已证实,这种技术理论上能生产出5纳米甚至更先进的工艺,尽管良率和成本问题突出,对海外芯片企业吸引力有限。
对中国市场而言,5纳米工艺的国产化具有重大意义,随着先进芯片在服务器、PC等各行业广泛应用,尤其是在能耗敏感的服务器市场,国产芯片的自给自足变得至关重要。尽管成本高昂,但满足国内需求、降低对外依赖,尤其是AI等领域的支持,是当务之急,这在当前美国对关键技术供应的限制背景下显得尤为突出。
据统计,中国芯片市场70%以上的需求集中在14纳米以上工艺,这些技术已实现量产并影响全球。中国成熟工艺芯片已具备出口竞争力,若能进一步突破5纳米,将极大减少进口依赖,对于AI等本土产业的推动具有战略意义。华人工程师在全球芯片领域的贡献不容忽视,从台积电到美国企业,华人人才众多,这为我国突破工艺限制提供了深厚的技术基础。
总的来说,尽管挑战重重,但中国芯片行业凭借自身的努力和人才储备,正逐渐打破先进工艺的桎梏,实现自给自足的前景可期。