硬限位是用装在机床各运动轴两端的限位开关，如行程开关、感应开关等，用以限制各轴运动范围的。
软限位也是用来控制各轴运动范围的，但它是以机床坐标来设定的，控制范围在系统的参数里设定的。
软限位也是用来控制各轴运动范围的，但它是以机床坐标来设定的，控制范围在系统的参数里设定的。
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这个在机械设计中经常涉及，硬限位就是用机械加工件去实现设备位置的限制，经常用到的是机加件上安装聚氨酯做硬限位。软限位就是通过电器和软件来实现如光电开关、行程开关等等。如还有不明白可以联系我。
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1.胶印（Lithography），又名柯式印刷，是广泛使用的印刷技术，是先把上墨的图像转移到橡皮布上，然后再转移到印刷材料表面的一种印刷方法。胶印是平版印刷的一种，也是基于水墨相斥的原理的，胶印技术可以避免印刷表面的水与油墨一起传递到印刷材料的表面上
胶印的优点如下：
图像质量高——比凸版印刷更加清晰、明锐，因为橡皮布能够与印刷材料表面的纹理很好地接触。
除了平滑的纸张外，还可以使用范围广泛的印刷材料，例如木头、织物、金属、皮革、较粗糙的纸张等。
印版的制作快速、简便。
印版耐印率比直接平版印刷更高——因为印版和印刷表面之间没有直接接触。
lithography是一种平板印刷技术，在平面光波回路的制作中一直发挥着重要的作用。具体过程如下：
首先在二氧化硅为主要成分的芯层材料上面，淀积一层光刻胶；
使用掩模版对光刻胶曝光固化，并在光刻胶层上形成固化的与掩模板完全对应的几何图形；
对光刻胶上图形显影，与掩模对应的光刻胶图形可以使芯层材料抵抗刻蚀过程；
使用等离子交互技术，将二氧化硅刻蚀成与光刻胶图形对应的芯层形状；
光刻胶层剥离；
最后在已经形成的芯层图形上面淀积上包层。
使用lithography方法几乎可以在芯层材料上形成各种几何图形，图形的精细度取决于曝光系统的光源波长，现有UV、DUV、e-beam、x-ray、nano-imprint几种曝光方式。
2 .软接触（soft contact）
Soft Contact轻触（光化学、干膜、曝光及显影）& Hard Contact
光阻膜于曝光时，须将底片紧密压贴在干膜或已硬化之湿膜表面，称为 Hard Contact。若改采平行光曝光设备时则可不必紧压，称为 Soft Contact。此“轻触” 有别于高度平行光自动连线之非接触(Off Contact)式驾空曝光。
4.真空接触晒像（vacuum contact）
一种在印制板晒制图形时将曝光框抽真空，使底片与印制板在大气压下均匀地接触，从而获得清晰图形的制图方法。